JCN울산중앙방송

UNIST가 나노 물질 신소재인 그래핀의 층수를 조절할 수 있는 합성법의
개발 단서가 될 흡착층을 최초로 발견했습니다.

UNIST 신소재공학과 펑 딩 교수와 이종훈 교수 연구팀은
고분해 투과 전자 현미경 기술을 활용해
그래핀이 나선 형태로 합성되는 원인을 분석하는 데
성공했다고 밝혔습니다.

펑 딩 교수는 "이번 연구로 원료 공급을 억제하거나
활성화하는 방식으로 그래핀의 층수를 조절하는 새로운 합성법 개발이
가능할 것으로 기대한다"고 말했습니다.

이번 연구는 국제 학술지 어드벤스드 머터리얼즈에 게재됐습니다.
// 김영환 기자